投資銀行野村證券(Nomura)的市場分析師指出，超紫外光微影(EUVL)儼然已成為下一代IC制程的主流接班技術，但日本微影設備業者在此方面的研發腳步，卻落后歐洲廠商ASML甚多；不過該銀行分析師認為，面臨被市場淘汰危機的日本微影設備廠商，若可透過某種國家支持政策形式來凝聚產業力量，仍為時未晚──因為包括Nikon在內的業者恐怕無法獨力負擔所需的技術研發支出。

    野村證券的分析師已經針對各種微影接班技術進行研究，所得出的結論是，盡管EUVL在2015~2016年全面量產之前，還得克服動力來源、光罩與檢查方面的挑戰，但仍是最具潛力的一種微影技術。而事實上，跟目前的氬氟浸潤式193奈米微影雙重圖形(double-patterning)相較，EUVL所面臨的問題還比較少。

    “根據那些最積極微縮制程的NAND閃存制造商說法，EUVL是下一代微影技術的最佳選項，他們并不想用雙重圖形技術(DPT)。”野村證券分析師表示，主要原因是DPT制程不但復雜度較高，也會導致低吞吐量、制程不可靠性以及帶來高成本的低良率。

    此外，利用了密集運算的像素化相位移光罩(xilatedphase-shiftmasks)之反轉式微影技術(Inverselithographytechnology，ILT)，據說與英特爾正運用該技術與氬氟浸潤式微影，微縮至11奈米制程；但野村證券分析師認為，那只是當前現有技術暫時性的擴充應用。

    還有奈米壓印微影(Nanoimprintlithography，NIL)亦頗具潛力，甚至可微縮至10奈米制程，但主要適用微機電系統(MEMS)與光學組件。電子束微影(E-beamlithography)雖已經用以生產原型組件，但要達到大量生產仍有難以突破的障礙。至于利用不同聚合物架構的自動組裝(self-assembly)技術，應用范圍則非常狹窄。

    野村證券預測，EUVL設備市場在2010年與2011年將分別達到50億日圓(約6,000萬美元)、250億日圓(約3億美元)的規模，到了2015與2016年，該市場可望進一步擴充至1,600億日圓(約19億美元)與2,000億日圓(約24億美元)的規模，并在2018年達到3,000億日圓(35億美元)。

    日本廠商Canon是全球首家推出商業化EUVL設備的供貨商，但該公司已經停止開發這類設備；另一家日本廠商Nikon的相關進展則遠遠落后歐洲業者ASML。目前ASML是唯一的EUVL設備供貨商，該公司一臺步進機(stepper)的售價高達4,000萬~4,500萬歐元(約5,000萬~6,000萬美元)。

    野村分析師預言，在接下來的五年內，ASML將獨霸EUVL步進機市場；其他因EUVL技術而受惠的廠商包括相關零件供貨商Ushio、Lasertec與Hoya。而由于ASML在EUVL系統開發上的領導地位，日本廠商恐怕將失去在先進半導體微影技術領域的優勢；對此野村分析師建議，日本需要推動一個全國性且聯合整個產業的研發計劃。(參考原文：Analyst:Japan’slithofirmsfaceextinction，byPeterClarke)