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技術升級戰開打:2012年液晶產業新看點

來源:投影時代 更新日期:2012-07-24 作者:蕭蕭
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    自2009年10月夏普液晶10代面板線投產之后,液晶面板業界,特別是面向彩電的大尺寸海量市場的技術進步就沒有太多“起色”:節能和超薄的發展雖然也給人以新的“應用”技術體驗,但是實在擔當不起這個“科技”行業的“指明燈”角色。不過,隨著2012年的帶來,這一局面在發生改變。

    液晶的新分辨率

    2012年春季新品中,東芝采用臺廠友達的55英寸液晶屏幕的新款電視格外搶眼:4K的分辨率和裸眼3D完全開創了一個屬于彩電產業的新“產品類”。

    研究數據表明,從蘋果在手機上采用LGD的“視網膜”超高解析度顯示屏幕開始,新一輪像素升級戰已經展開。預測,2012年高像素密度顯示技術的液晶面板會成為彩電和筆記本電腦市場的新寵,并逐步形成普及的趨勢。

    2011年12月份,LGD在中國展示了84寸UD 3D面板(UHD,Ultra High Definition),就采用4K×2K分辨率,而在2012年1月的CES展上,LGD再次正式展出了這種84寸產品。2012年CES展上,松下則展示了采用IPS技術的自制3840*2160分辨率的20英寸面板,PPI為216。2012年4月,液晶之父夏普正式發布了采用IGZO(銦鎵鋅氧化物半導體)材料的新型高分辨率液晶面板產品,包括:32寸的4K*2K分辨率的顯示器面板(140ppi),10寸具有WQXGA分辨率2560×1600的筆記本電腦用面板(300ppi),以及7寸分辨率為1280×800的平板電腦用面板(217ppi)。

    在2012年6月,美國波士頓舉行的顯示器國際學會“SID 2012”上,夏普公布了支持7680×4320像素(8K×4K)即“超高清”的85英寸液晶顯示器的技術;韓國三星顯示器LCD研發中心高級副總裁Sungtae Shin則介紹了了三星對,氧化物半導體TFT、低電阻布線、低介電率材料、“PenTile”之類的像素排列及渲染技術在內的一系列實現4K×2K及8K×4K的高精細化顯示的基礎技術的關心和研究成果。

    這些4K技術產品的亮點不是在于技術上的出現(實際上,4K產品在專業顯示市場,例如醫療、圖形市場,早已獲得很好的應用),現在面板企業們的高調的亮點實際上在于,他們要把高分辨率技術推向民用,推向彩電和筆記本電腦市場。

    面板廠商推出4K液晶電視面板將有助于提升面板企業的業績。采用4K技術的新彩電不僅更具市場賣點,更符合高端消費者的心態。這種產品能夠在市場總規模、總銷量不增加的情況下,提升面板和彩電上下游企業的銷售額、產值和利潤。4K面板的推出對于面板和彩電業是百利無一害。

    但是,這么“好”的產品的全面上市也必須建立在新的技術進步的基礎之上。支持4K的液晶屏幕廠商,無論是QFHD(QuadFullHighDefinition),分辨率為3840x2160;還是分辨率為4096x2160的產品多數都是建立在一種被稱作金屬氧化物的新型薄膜晶體管技術之上。

技術升級戰開打:2012年液晶產業新看點

    傳統液晶電視用的TFT薄膜晶體管采用的是A-SI(非晶硅)技術。這一技術的特點是工藝簡單成本低廉。新型的“金屬氧化物Oxide”TFT技術(夏普叫做IGZO:In-Ga-Zn-O,一種銦鎵鋅氧化物)的技術特點則是,利用和A-SI(非晶硅)一樣簡單的工藝實現更高的電子遷移率和更高的面板開口率——前者是OLED面板所需要的新特性,后者則是更高解析度的顯示面板需要的新特性。

    “金屬氧化物Oxide”TFT技術更多的應用到大尺寸線的液晶面板線上不同,另一種新型TFT技術,LTPS (Low Temperature Poly-silicon)低溫多晶硅技術則主要應用在6代線,及其以下世代線之上。這種技術在電子遷移率上要比金屬氧化物高5-10倍,性能更為出色,同時可以實現IN-CELL的更緊湊IC結構,但是制備過程也較復雜:大面積退火的成品率、更大型的設備、以及成品關態電流控制等問題困擾業界。不過單從性能上看,這種技術有望最終取代金屬氧化物TFT。對于面板企業采用LTPS的另一個不同之處在于,需要全新的TFT生產線設備,而不像金屬氧化物技術全面集成了非晶硅技術的工藝和設備——這導致LTPS-TFT生產線建設周期更長、投入更多、風險更大。這也是目前大尺寸市場金屬氧化物更受歡迎的原因之一。

    理論上,面板企業(例如夏普,已經在8代線和10代線升級新的TFT技術)采用新型搞電子遷移率TFT技術,既可以推出更高開口率、更高光效率的傳統分辨率液晶面板;還可以推出更高解析度的液晶面板并有效控制顯示質量;同時還可以為未來向OLED演化做準備——實現一箭三雕的效果。此外,這種金屬氧化新型TFT技術,幾乎不需要新的設備投入,而是基本采用和原來非晶硅一樣的工藝技術,只不過更換了新型材料而已——無論是企業的投資成本,還是最終產品的成本變化都非常小。

   

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